Закрыть
Клей минеральный StoLevell Basic

Клей минеральный StoLevell Basic

  • 1 380 Р
Выберите предложение:
Кол-во:
  • В корзину
  • В 1 клик

Минеральный клеящий и армирующий раствор для минеральных оснований.

  • Код GIS: ZP1 продукты, содержащие цемент, с низким содержанием хромата (содержание хромата ≤ 2 ppm)
  • для наружных и внутренних работ
  • для всех минеральных оснований
  • для приклеивания теплоизоляционных плит на минеральные основания
  • для создания тонких армирующих слоев
  • в качестве клеевой и армирующей массы для StoTherm Vario и StoTherm Mineral
  • высокая клеящая способность
  • стойкость к воздействию погодных условий
  • высокая проводимость водяного пара
  • хорошая сила сцепления с основанием

Состав:

Серый цемент, полимерный порошок, пески, добавки.

  • Бренд: STO
  • Минимальная толщина слоя: 3 мм
  • Максимальная толщина слоя: 6 мм
  • Плотность затвердевшего раствора: 1,5 г/см³
  • Прочность на изгиб (28 дней): 1,9 N/мм²
  • Прочность на сжатие (28 дней): 4,3 N/мм²
  • Коэффициент сопротивления диффузии водяного пара μ: ≤ 25 г/см

Требования к основанию

Основание должно быть твердым, ровным, сухим, прочным, а также свободным от жира и пыли. Совместимость способа крепления к основанию, при необходимости, следует отдельно проверить непосредственно на объекте. Влажные или не полностью связанные основания могут привести при дальнейших покрытиях к таким дефектам как, например, образование пузырей, трещин. Имеющиеся основания следует проверить на предмет пригодности и несущей способности. Непрочные старые покрытия следует удалить. При необходимости следует очистить поверхность основания.

Минимальная температура поверхности и воздуха: +5 °C. Максимальная температура поверхности и воздуха: +30 °C

Подготовка материала

Залить воду и добавить сухую смесь раствора. Перемешать в течение около 5 минут, затем оставить созревать на 10 минуты и затем еще раз перемешать в течение около 60 секунд. Соотношение смешивания 5,8 л. воды на 25 кг.

Время обработки

При 20 °C около 90 минут.

Нанесение

Вручную.

Приклеивание

Продукт наносится вручную кельмой из нержавеющей стали или машинным способом. Изоляционные плиты необходимо незамедлительно вдавить в свежий клеевой раствор и прижать. Область приклеивания при нанесении клея на стену: При Sto-плитах из твердого вспененного полистирола не менее 60% плиты в приклеенном состоянии. При Sto- Speedlamellen не менее 90% плиты в приклеенном состоянии. Область приклеивания при нанесении клея на плиту: Не менее 40% плиты в приклеенном состоянии. В комплексных теплоизоляционных системах с керамической облицовкой допустима лишь одна область приклеивания – не менее 60% плиты в приклеенном состоянии.

Армирование

Продукт наносится вручную кельмой из нержавеющей стали или машинным способом. В верхнюю треть армирующего слоя еще влажной армирующей массы по всей поверхности притопить системную ткань. Стыки отрезков ткани должны накладываться друг на друга не менее чем на 10 см. В проемах в помещении (откосы оконных и дверных проёмов и т.д.) необходимо предусмотреть в углах диагональное армирование. Рекомендуемая средняя толщина армирующего слоя 3 - 5 мм. Указанное значение является ориентировочным. В зависимости от конкретного случая использования (углы, откосы и т.д.) толщина слоя может значительно отличаться.

Высыхание, затвердевание, повторная обработка

Время высыхания зависит от температуры, ветра и относительной влажности воздуха. При неблагоприятных погодных условиях следует по умолчанию предпринять соответствующие защитные меры (например, укрыть от дождя) для обрабатываемых или недавно обработанных фасадов. Затвердевание длится в зависимости от погодных условий около 1 дня/мм толщины слоя. При температуре воздуха и поверхности +20°C и 65% относительной влажности воздуха: повторная обработка не ранее чем через 24 - 48 часов.

Очистка инструментов

Сразу же после работы вымыть инструмент водой

Оставьте отзыв
Оцените качество материала
Оставить отзыв
Нажимая на кнопку, вы соглашаетесь на обработку персональных данных и с политикой конфиденциальности компании.